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          EDI�(shè)備的化學(xué)清洗及再�

          �(lái)源:純水�(shè)�  作者:南京萊弗特環(huán)??萍脊?/a>  日期�2020-08-26 08:25:53  瀏覽量:1609�

          EDI�(shè)備是�(yīng)用在反滲透系�(tǒng)之后,取代傳�(tǒng)的混床離子交換技�(shù)生產(chǎn)�(wěn)定的超純�。EDI模塊的日常清洗及保養(yǎng)�(duì)于延�(zhǎng)其使用壽命發(fā)揮著不可忽視的作��


          雖然EDI膜塊的�(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的�(jī)�(huì),但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展,EDI膜塊�(nèi)部水道還是有可能�(chǎn)生阻�,這主要是EDI�(jìn)水中含有較多的溶�(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果�(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過(guò)0.8ppm�、CO2 和較高的 pH 值,將會(huì)加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過(guò)化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊�(jìn)行清洗,使之恢復(fù)到原�(lái)的技�(shù)特��


          EDI系統(tǒng)整機(jī)


          通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾�(gè)方面�(jìn)行評(píng)估判定:


          1、在�(jìn)水溫度、流量不變的情況�,�(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始�(shù)�(jù)升高 45%�


          2、在�(jìn)水溫�、流量不變的情況�,濃水�(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始�(shù)�(jù)升高45%�


          3、在�(jìn)水溫�、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,�(chǎn)水水�(zhì)(電阻率)明顯下��


          4、在�(jìn)水溫度、流量不變的情況�,濃水排水流量下�35%�


          模塊分解�


          膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式:顆�/膠體污堵;無(wú)�(jī)物污�;有�(jī)物污�;微生物污堵。(EDI 清洗注意:在清洗或消毒之前請(qǐng)先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源�(méi)有切斷的狀�(tài)下�(jìn)行化�(xué)清洗)詳情如下:


          1、顆�/膠體污堵


          �(jìn)水顆粒度�5μm �(shí)�(huì)造成�(jìn)水流道堵�,引起膜塊內(nèi)部水流分布不均勻,從而導(dǎo)� 膜塊整體性能降低。如果EDI膜塊的�(jìn)水不是直接由 RO �(chǎn)水端�(jìn)� EDI 膜塊,而是通過(guò)RO�(chǎn)水箱�(jīng)�(guò)增壓泵供水,建議在�(jìn)入EDI膜塊前端增設(shè)保安�(guò)濾器(≤0.2μm�。在組裝EDI�(shè)備時(shí),所有的連接管道系統(tǒng)�(yīng)沖洗干凈以預(yù)防管道內(nèi)的顆粒雜�(zhì)�(jìn)入膜塊�


          2、無(wú)�(jī)物污�


          如果 EDI �(jìn)水含有較多的溶質(zhì)且超出設(shè)�(jì)值或者回收率超過(guò)�(shè)�(jì)值時(shí),將導(dǎo)致濃水室和陰極室的結(jié)�,生成鹽�(lèi)物質(zhì)析出沉淀,通常�(jié)垢的�(lèi)型為�、鎂離子生成的碳酸鹽。即便這類(lèi)物質(zhì)的濃度很�,接觸時(shí)間也很短,但隨著�(yùn)行時(shí)間的累加,仍有發(fā)生結(jié)垢的可能,這種硬度�(jié)垢很容易通過(guò)酸洗去除。使用低PH溶液在系�(tǒng)�(nèi)部循�(huán)清洗,可以去除濃水室和陰極室的結(jié)垀�


          �(dāng)�(jìn)水中的鐵和錳含量高,或者高TDS的水以外�(jìn)入到EDI膜塊�(shí),也�(huì)使淡水室的離子交換樹(shù)脂或者濃水室形成�(wú)�(jī)物污堵�


          3、有�(jī)物污�


          �(dāng)�(jìn)水有�(jī)污染物TOC或TEA含量超過(guò)�(shè)�(jì)�(biāo)�(zhǔn)�(shí),淡水室的離子交換樹(shù)脂和離子膜會(huì)�(fā)生有�(jī)污堵??梢杂酶逷H值的藥水�(duì)淡水室及濃水室循�(huán)清洗可以將有�(jī)分子清除出離子交換樹(shù)脂對(duì)這種污堵�(jìn)行清��


          4、微生物污堵


          �(dāng)�(shè)備運(yùn)行環(huán)境適于微生物生長(zhǎng),或者�(jìn)水中存在較多的細(xì)菌和藻類(lèi)的時(shí)�,EDI膜塊和系�(tǒng)也會(huì)�(fā)生微生物污堵。可以用高PH鹽水�(jìn)行清�。對(duì)下面是清洗方案選擇表�


          各清洗方法時(shí)間:


          單�(gè)模塊清洗�(shí)藥液配用量:


          注:�(duì)于膜塊數(shù)量大� 1 塊時(shí),按表中配液的數(shù)量乘以膜塊數(shù)��


          清洗用化�(xué)藥品�(guī)格:所有化�(xué)藥品必須使用推薦的等�(jí)或高于推薦的等級(jí)�


          安全注意事項(xiàng)


          1、在配置清洗藥液�(shí),必須穿戴好防護(hù)服、防�(hù)眼鏡和防�(hù)手套�


          2、需要清洗的�(shè)備管路必須是與其他連接�(shè)備的連接管路完全隔離��


          3、需要清洗的�(shè)備其電源必須是完全切斷并有“正在操�,不得送電”的安全警示�


          4、整�(gè)清洗�(guò)程中清洗的工作壓力不能超�(guò) 0.15MPa�


          清洗�(shè)備組�


          1、清洗循�(huán)泵(耐腐蝕泵�


          2、清洗水箱(PP�


          3、耐腐蝕清洗軟管(與清洗泵適配�


          4、耐腐蝕閥門(mén)(UPVC�


          5、耐腐蝕壓力表


          6、過(guò)濾器(≤1μm�


          工具:pH 試紙(廣泛);溫度計(jì);計(jì)�(shí)�


          清洗方案


          蘇伊士EDI


          濃水室結(jié)垢清�


          1、記錄清洗前所有數(shù)�(jù)�


          2、分離EDI�(shè)備與其他�(shè)備的連接管路


          3、連接清洗裝置,使清洗泵通過(guò)濃水管路�(jìn)入EDI膜塊再回到清洗水�,濃水�(jìn)、出水閥�(kāi)�,關(guān)閉EDI淡水�(jìn)水閥和產(chǎn)水閥�


          4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液�


          5、啟�(dòng)清洗�,調(diào)節(jié)濃水�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地溝�


          7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          8、打�(kāi)EDI�(jìn)水閥和產(chǎn)水閥,同�(shí)�(duì)兩�(gè)水室�(jìn)行沖��


          9、檢�(cè)濃水出水�(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          10、各�(gè)閥門(mén),恢�(fù)原始各設(shè)�(jì)流量�(shù)�(jù)�


          11、恢�(fù) EDI 各�(gè)管路與其他系�(tǒng)的連接�


          12、開(kāi)� PLC 控制柜電源,� EDI 膜塊送電,轉(zhuǎn)入正常運(yùn)�,并作好初次�(yùn)行的�(shù)�(jù)記錄�


          淡水室結(jié)垢清�


          1、記錄清洗前所有數(shù)�(jù)�


          2、分離EDI�(shè)備與其他�(shè)備的連接管路


          3、連接清洗裝置,使清洗泵通過(guò)�(jìn)水管路分別�(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室,再回到清洗水箱,開(kāi)啟所有的�(jìn)出水閥門(mén)�


          4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液�


          5、啟�(dòng)清洗泵,分別�(diào)節(jié)濃水、�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地溝�


          7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          8、分別檢�(cè)淡水、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          9、調(diào)節(jié)各�(gè)閥門(mén),恢�(fù)原始各設(shè)�(jì)流量�(shù)�(jù)�


          10、停�(jī),恢�(fù)EDI各�(gè)管路與其他系�(tǒng)的連接�


          11、開(kāi)啟PLC控制柜電�,向EDI膜塊送電,�(jìn)行再生(再生步驟�,直至電阻率�(dá)到出水要求為��


          12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)�,并作好初次�(yùn)行的�(shù)�(jù)記錄�


          有機(jī)物污堵清�


          1、記錄清洗前所有數(shù)�(jù)�


          2、分離EDI�(shè)備與其他�(shè)備的連接管路�


          3、連接清洗裝置,使清洗泵通過(guò)�(jìn)水管路分別�(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室,再回到清洗水箱,開(kāi)啟所有的�(jìn)出水閥門(mén)�


          4、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉(NaOH�+2%鹽(NaCl)的清洗��


          5、啟�(dòng)清洗�,分別調(diào)節(jié)濃水、�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(堿洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離濃水排水閥至地溝�


          7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          8、分別檢�(cè)�(chǎn)�、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          9、調(diào)節(jié)各�(gè)閥門(mén),恢�(fù)原始各設(shè)�(jì)流量�(shù)�(jù)�


          10、停�(jī),恢�(fù)EDI各�(gè)管路與其他系�(tǒng)的連接�


          11、開(kāi)啟PLC控制柜電源,向EDI膜塊送電,�(jìn)行再生(再生步驟),直至電阻率達(dá)到出水要求為��


          12、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)�,并作好初次�(yùn)行的�(shù)�(jù)記錄�


          某化工廠(chǎng)�(yùn)行中的EDI系統(tǒng)


          有機(jī)物污堵和�(jié)�


          1、記錄清洗前所有數(shù)�(jù)�


          2、分離EDI�(shè)備與其他�(shè)備的連接管路�


          3、連接清洗裝置,使清洗泵通過(guò)�(jìn)水管路分別�(jìn)入EDI膜塊的淡水室和濃水室,再回到清洗水箱,開(kāi)啟所有的�(jìn)出水閥門(mén)�


          4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液�


          5、啟�(dòng)清洗�,分別調(diào)節(jié)濃水、�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。參�(jiàn)附表�


          6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地��


          7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          8、分別檢�(cè)�(chǎn)�、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          9、在清洗水箱配置1%濃度的氫氧化鈉(NaOH�+2%鹽(NaCl)的清洗��


          10、啟�(dòng)清洗�,分別調(diào)節(jié)濃水、�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(堿洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地溝�


          12、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          13、分別檢�(cè)�(chǎn)�、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          14、調(diào)節(jié)各�(gè)閥門(mén),恢�(fù)原始各設(shè)�(jì)流量�(shù)�(jù)�


          15、停�(jī),恢�(fù)EDI各�(gè)管路與其他系�(tǒng)的連接�


          16、開(kāi)啟PLC控制柜電�,向EDI膜塊送電,�(jìn)行再生(再生步驟),直至電阻率達(dá)到出水要求為��


          17、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)行,并作好初次運(yùn)行的�(shù)�(jù)記錄�


          蘇伊士工�(yè)通用系列模塊


          �(yán)重的微生物污堵和�(jié)�


          1、記錄清洗前所有數(shù)�(jù)�


          2、分離EDI�(shè)備與其他�(shè)備的連接管路


          3、連接清洗裝置,使清洗泵通過(guò)�(jìn)水管路�(jìn)入EDI膜塊的淡水室、濃水室,再回到清洗水箱,開(kāi)啟所有的�(jìn)出水閥門(mén)�


          4、在清洗水箱配置2%濃度的鹽酸清洗液�


          5、啟�(dòng)清洗泵,分別�(diào)節(jié)濃水、�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(酸洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          6、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地��


          7、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          8、分別檢�(cè)淡水、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          9、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液�


          10、啟�(dòng)清洗�,調(diào)節(jié)淡水、濃水�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(鹽洗步驟)。(參見(jiàn)附表�


          11、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢液,分離�(chǎn)�、濃水排水閥至地溝�


          12、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          13、分別檢�(cè)�(chǎn)�、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          14、在清洗水箱配置0.04%濃度的過(guò)氧乙�(CH3COOOH)+0.2%的過(guò)氧化氫(H2O2)清洗液�


          15、啟�(dòng)清洗�,分別調(diào)節(jié)淡水、濃水�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(消毒步驟)�


          16、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離濃水排水閥至地溝�


          17、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          18、分別檢�(cè)�(chǎn)�、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相��


          19、在清洗水箱配置2%濃度的鹽(NaCl)清洗液�


          20、啟�(dòng)清洗�,調(diào)節(jié)淡水、濃水�(jìn)水閥,以�(guī)定的流量循環(huán)清洗(鹽洗步驟)�


          21、停止清洗泵,排空清洗水箱清洗廢�,分離產(chǎn)�、濃水排水閥至地��


          22、向清洗水箱連續(xù)注入清水(RO�(chǎn)水),啟�(dòng)清洗泵連續(xù)清洗(沖洗步驟)�


          23、分別檢�(cè)�(chǎn)水、濃水出水側(cè)的水�(zhì),直至與�(jìn)水側(cè)電導(dǎo)率相近�


          24、調(diào)節(jié)各�(gè)閥門(mén),恢�(fù)原始各設(shè)�(jì)流量�(shù)�(jù)�


          25、停�(jī),恢�(fù)EDI各�(gè)管路與其他系�(tǒng)的連接�


          26、開(kāi)啟PLC控制柜電�,向EDI膜塊送電,�(jìn)行再生(再生步驟�,直至電阻率�(dá)到出水要求為歀�


          27、轉(zhuǎn)入正常運(yùn)�,并作好初次�(yùn)行的�(shù)�(jù)記錄


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          http://www.modelling.cn/shuichulijishu/793.html
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