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          EDI超純水設(shè)備看這一篇就夠了

          來源�純水�(shè)�  作者:南京萊弗特環(huán)??萍脊?/a>  日期�2020-11-11 08:58:08  瀏覽量:615�

          一.EDI超純水設(shè)備簡�


          EDI超純水處理設(shè)備即電去離子系統(tǒng),電滲析膜分離技�(shù)與離子交換技�(shù)有機(jī)地結(jié)合起來的一種新的制備超純水(高純水)的技�(shù),它利用電滲析過程中的極化現(xiàn)象對(duì)填充在淡水室中的離子交換樹脂�(jìn)行電化學(xué)再生。該�(shè)備主要是在直流電�(chǎng)的作用下,通過隔板的水中電介質(zhì)離子�(fā)生定向移�(dòng),利用交換膜�(duì)離子的選擇透過作用來對(duì)水質(zhì)�(jìn)行提純�


          二.EDI的基本工作原�


          EDI是一種將離子交換技�(shù)、離子交換膜技�(shù)和離子電遷移技�(shù)(電滲析技�(shù))相�(jié)合的純水制造技�(shù)。該技�(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離�(chǎn)生H+和OH-,這些離子�(duì)離子交換樹脂�(jìn)行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持好狀�(tài)�


          EDI膜堆主要由交替排列的陽離子交換膜、濃水室、陰離子交換�、淡水室和正、負(fù)電極組成。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單�(gè)處理單元,并�(gòu)成淡水室,單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔�,形成濃水室。在直流電場(chǎng)的作用下,淡水室中離子交換樹脂中的陽離子和陰離子沿樹脂和膜構(gòu)成的通道分別向負(fù)極和正極方向遷移,陽離子透過陽離子交換膜,陰離子透過陰離子交換膜,分別�(jìn)入濃水室形成濃水。同�(shí)EDI�(jìn)水中的陽離子和陰離子跟離子交換樹脂中的氫離子和氫氧根離子交換,形成超純水(高純水�。超極限電流使水電解�(chǎn)生的大量氫離子和氫氧根離子對(duì)離子交換樹脂�(jìn)行連續(xù)的再�。傳�(tǒng)的離子交�,離子交換樹脂飽和后需要化�(xué)間歇再生。而EDI膜堆中的樹脂通過水的電解連續(xù)再生,工作是連續(xù)的,不需要酸堿化�(xué)再生�


          EDI裝置將給水分成三股獨(dú)立的水流:純�、濃水、和極水。純水(90%-95%)為得到水,濃水�5%-10%)可以再循環(huán)處理,極水(1%)排放掉�


          三.EDI裝置的特�(diǎn)


          EDI裝置不需要化�(xué)再生,可連續(xù)�(yùn)行,�(jìn)而不需要傳�(tǒng)水處理工藝的混合離子交換�(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢�。其主要特點(diǎn)如下�


          EDI的凈水基本過程:


          �1)連續(xù)�(yùn)行,�(chǎn)品水水質(zhì)�(wěn)�


          �2)容易實(shí)�(xiàn)全自�(dòng)控制


          �3)無須用酸堿再生


          �4)不�(huì)因再生而停�(jī),節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)�


          �5)產(chǎn)水率高(可達(dá)95%��


          EDI裝置屬于精處理水系統(tǒng),一般多與反滲透(RO)配合使�,組成預(yù)處理、反滲�、EDI裝置的超純水處理系統(tǒng),取代了傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換�(shè)�。EDI裝置�(jìn)水要求為電阻率為0.025-0.5MΩ·cm,反滲透裝置完全可以滿足要求。EDI裝置可生�(chǎn)電阻率高�(dá)15MΩ·cm以上的超純水�


          �(duì)于高純水系統(tǒng),無論從�(chǎn)水質(zhì)�、性能和操作等方面考慮,還是從�(yùn)行費(fèi)用和�(huán)保等方面考慮,反滲�+EDI工藝都是一�(gè)理想的選��


          三.EDI�(shè)備各種技�(shù)工藝的優(yōu)缺點(diǎn)


          目前,成套EDI超純水設(shè)備制備超純水技�(shù)大約有三�,三種工藝各有各的優(yōu)�(diǎn),也各有各的缺點(diǎn),第一種是傳統(tǒng)的利用離子置換樹脂制備超純水的工�,這種工藝�(yōu)�(diǎn)較明�,設(shè)備運(yùn)行初期的資金投入�,并且設(shè)備體積較�,但樹脂工作�(shí)間長了需要再�,在再生階段�(huì)造成大量的酸堿浪�(fèi)以及污染,所以比較不�(huán)��


          �(xiàn)如今,超純水系統(tǒng)工藝主要有三大類,其他的工藝基本上都是在這三大類的基�(chǔ)上�(jìn)行不同結(jié)合搭配衍生出來的?,F(xiàn)在將這三種工藝的�(yōu)缺點(diǎn)列于��


          1、EDI電子專用超純水設(shè)備采用的第一種工藝主要使用離子交換樹�,優(yōu)�(diǎn)顯示在投入資金少,占用的地方不是很大,但缺點(diǎn)也非常明�,必須經(jīng)常�(jìn)行再�,對(duì)�(huán)境有一定的破壞�


          2、第二種工藝使用反滲透技�(shù)作為�(yù)處理裝置技�(shù),這�(gè)工藝缺點(diǎn)比上一種工藝還要嚴(yán)�,初期的投入資金比上一種高出很�,優(yōu)�(diǎn)就是EDI電子專用超純水設(shè)備再生時(shí)間間隔相�(duì)要長,對(duì)�(huán)境同樣有一定污染��


          3、、第三種工藝同樣是采用反滲透作裝置作為�(yù)處理�(shè)�,第三種方法這是�(xiàn)如今制取超純水經(jīng)�(jì)、環(huán)保用來制取超純水工藝,不必�(jìn)行設(shè)備再生處理,并且周圍�(huán)境基本無污染。但是其缺點(diǎn)在于資金投入方面相對(duì)以上兩種方式還是過于��


          三.EDI�(shè)備的污染判斷及清洗方�


          EDI 污染判斷�8種清洗方�


          雖然EDI膜塊的�(jìn)水條件在很大的程度上減少了膜塊內(nèi)部阻塞的�(jī)�(huì),但是隨著設(shè)備運(yùn)行時(shí)間的延展,EDI膜塊�(nèi)部水道還是有可能�(chǎn)生阻�,這主要是EDI�(jìn)水中含有較多的溶�(zhì),在濃水室中形成鹽的沉淀。如果�(jìn)水中含有大量的鈣鎂離子(硬度超過0.8ppm�、CO2和較高的 PH �,將�(huì)加快沉淀的速度。遇到這種情況,我們可以通過化學(xué)清洗的方法對(duì)EDI膜塊�(jìn)行清洗,使之恢復(fù)到原來的技�(shù)特��


          通常判斷 EDI 膜塊被污染堵塞可以從以下幾�(gè)方面�(jìn)行評(píng)估判定:


          1、在�(jìn)水溫�、流量不變的情況�,�(jìn)水側(cè)與產(chǎn)水側(cè)的壓差比原始�(shù)�(jù)升高 45%�


          2、在�(jìn)水溫�、流量不變的情況�,濃水�(jìn)水側(cè)與濃水排水側(cè)的壓差比原始�(shù)�(jù)升高45%�


          3、在�(jìn)水溫�、流量及電導(dǎo)率不變的情況下,�(chǎn)水水�(zhì)(電阻率)明顯下��


          4、在�(jìn)水溫�、流量不變的情況�,濃水排水流量下�35%�


          膜塊堵塞的原因主要有下面幾種形式�


          1、顆�/膠體污堵


          2、無�(jī)物污�


          3、有�(jī)物污�


          4、微生物污堵


          EDI 清洗注意:在清洗或消毒之前請(qǐng)先選擇合適的化學(xué)藥劑并熟悉安全操作規(guī)程,切不可在組件電源沒有切斷的狀�(tài)下�(jìn)行化�(xué)清洗�


          本文鏈接�
          http://www.modelling.cn/scldt/846.html
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